光催化氧化装置的核心是产生一组能产生特定纳米波长的电光源和纳米光催化触媒材料组成的净化反应腔。此种采用复合纳米技术设备产生的复合净化能量，可使进入反应腔的受污染空气即刻进行一系列理化反应，异（臭）味有害气体即被氧化分解成无臭、无害的物质，空气中的霉菌、病菌等也同时被杀灭，从而将洁净、新鲜的空气还给我们。

    活性炭吸附装置的性能指标可分为物理性能指标、化学性能指标、吸附性能指标，三种性能．活性炭的吸附可分为物理吸附和化学吸附。物理吸附主要发生在活性炭去除液相和气相中杂质的过程中。活性炭的多孔结构提供了大量的表面积，从而使其非常容易达到吸收收集杂质的目的。就象磁力一样，所有的分子之间都具有相互引力。正因为如此，活性炭孔壁上的大量的分子可以产生强大的引力，从而达到将介质中的杂质吸引到孔径中的目的。必须指出的是，这些被吸附的杂质的分子直径必须是要小于活性炭的孔径，这样才可可能保证杂质被吸收到孔径中。这也就是为什么我们通过不断地改变原材料和活化条件来创造具有不同的孔径结构的活性炭，从而适用于各种杂质吸收的应用。除了物理吸附之外，化学反应也经常发生在活性炭的表面。活性炭不仅含碳，而且在其表面含有少量的化学结合、功能团形式的氧和氢，例如羧基、羟基、酚类、内脂类、醌类、醚类等。这些表面上含有地氧化物或络合物可以与被吸附的物质发生化学反应，从而与被吸附物质结合聚集到活性炭的表面。